主要功能：設備用于清洗硅片。在擴散過程完成后，在硅片表面形成一層非晶或磷硅玻璃，在鍍膜前，需要用HF酸腐蝕去除。鍍膜（減反射膜）主要用來減少硅片表面對光的反射，一定厚度的減反射膜可以引起入射光和反射光的干涉，從而減少光的反射。如果不將硅片做去磷硅玻璃清洗就鍍膜，則會大大的降低硅片的轉換效率。
序號 規(guī)格 參數(shù)（參考）
1 整機尺寸 9450mm（L）*1900mm（W）*2240mm（H）
2 被清洗硅棒尺寸 125×125×0.20mm/156mm×156mm×0.20mm
3 最大產量 2000片/小時（125*125*0.2mm）1600片/?。?56*156*0.2mm）
4 操作方式 全自動
5 電力供應 30KW，3相交流電380伏50赫茲