光伏 - 核心部件          馮•阿登納公司擁有真空工藝的專業(yè)技術(shù)并能提供光伏薄膜領(lǐng)域幾乎所有光譜的獨立的核心部件。電子束和等離子體技術(shù)適用于不同工藝溫度條件下，大面積的功能層和導(dǎo)電層的沉積。真空工藝技術(shù)可以在不同的基材上沉積極薄的涂層，諸如玻璃、硅片、金屬帶或塑料薄膜。

磁控濺射源      磁控濺射源在低壓和氬氣狀態(tài)下產(chǎn)生一個增強等離子體放電的磁場。通過正極氬離子轟擊作為負極的鍍膜材料（靶材），靶材表面的單個原子被撞擊出來。這些原子凝結(jié)在基片表面從而形成一個連續(xù)的薄膜。加入反應(yīng)氣體，如氮氣或氧氣，可以進一步觸發(fā)等離子體化學(xué)反應(yīng)。通過這種方法可以形成氮化物和氧化物薄膜。

      磁控濺射源可以實現(xiàn)大面積的高精度的復(fù)雜化合物沉積。因此，這些磁控濺射源形成了生產(chǎn)多種光伏薄膜系統(tǒng)的鍍膜工藝基礎(chǔ)。帶旋轉(zhuǎn)靶材的磁控濺射源      在濺射過程中圓柱形靶材保持旋轉(zhuǎn)，因此其表面剝離幾乎一致。與平面靶磁控濺射源相比，高達85%的靶材利用率和較高的工作壽命可以顯著降低鍍膜成本。磁控濺射       通過選擇合適的濺射源類型和靶材、加入適當(dāng)?shù)姆磻?yīng)氣體，我們可以生產(chǎn)出絕大多數(shù)光伏膜層，同時膜層具有高上膜率和高均勻度。比如：透明導(dǎo)電層（ITO, ZnO:Al）背電極（Ag, Al, Mo等）鈍化層（SiNx:H）半導(dǎo)體前電極電子束槍      電子束槍被應(yīng)用在金屬和電介質(zhì)復(fù)合材料的高速蒸發(fā)上。大功率電子束以可編程的能量分布直接射向源材料。通過這種方式，電子束槍產(chǎn)生高溫和高蒸發(fā)率。熱蒸發(fā)物質(zhì)沉積在表面并持續(xù)不斷地形成高質(zhì)量的膜層。電子束蒸發(fā)        范圍廣泛的不同配置使得原材料和復(fù)合物的蒸發(fā)對光伏技術(shù)應(yīng)用意義重大，比如：半導(dǎo)體層導(dǎo)電層（Mo, Ag, Al等）電介質(zhì)層（防反射涂層：SiO2）